半导体废气去除净化方案

半导体工业在加工的过程中会使用到光刻胶、蚀刻液、清洗剂、显影剂等溶剂，而这些溶剂是含有大量的有机物成分，排放出来的废气含有HCl、氨、HF等危险污染物，而主要处理的是具有挥发性的VOCs。VOCs污染物为有机化合物，在浓度较高且有火花或静电情况下，极易发生闪爆现象。半导体在制造过程中一般的污染源包括颗粒污染物、金属离子和化学物质等，而这些都是属于有害的污染物。

半导体废气处理方法根据工业废气成分进行废气处理设备的选择：

喷淋塔：

喷淋塔可分为酸液喷淋塔、碱液喷淋塔、循环水喷淋塔，因在进行废气处理的过程中会涉及到酸碱等不同的污染物质，设备会根据废气的性质、采用的处理工艺将设备的材料划分为东莞玻璃钢喷淋塔、东莞pp喷淋塔、东莞不锈钢喷淋塔。

喷淋塔对各种腐蚀性气体净化处理效果明显，能有效去除氯化氢气体(HCl)、氟化氢气体(HF)、氨气(NH3)、硫酸雾(H2SO4)、铬酸雾(CrO3)、氰氢酸气体(HCN)、碱蒸气(NaOH)、福尔马林(HCHO)等水溶性气体。东莞喷淋塔废气净化效率高、操作管理简单、使用寿命长，净化处理后的酸碱废气排放达到国家排放标准。